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    > INTRODUC

    De llectron la fabrication des puces 8 > La micro

    De llectron la fabrication des puces 8 > La microlectronique

    DE L A RE C HE RC HE

    L I N D U ST R I E

    > De llectron la fabrication des

    Commissariat lnergie Atomique, 2006Direction de la communicationBtiment Sige91191 Gif-sur-Yvette cedex www.cea.fr

    ISSN 1637-5408.

    LA RVOLUTION TECHNOLOGIQUEUN PEU DHISTOIRECOMMENT FABRIQUE-T-ONLES CIRCUITS INTGRS ?

    LA NANOLECTRONIQUE

    1 > Latome

    2 > La radioactivit

    3 > Lhomme et les rayonnements

    4 > Lnergie

    5 > Lnergie nuclaire: fusion et fission

    6 > Le fonctionnement dun racteur nuclaire

    7 > Le cycle du combustible nuclaire

    8 > La microlectronique

    9 > Le laser

    10 > Limagerie mdicale

    11 > Lastrophysique nuclaire

    12 > Lhydrogne

    13 > Le Soleil

    14 > Les dchets radioactifs

    15 > Le climat

    >Lamicrolectronique

    8 >Lamicrolectronique

    Commissariat lnergie Atomique, 2006Direction de la communicationBtiment Sige91191 Gif-sur-Yvette cedex www.cea.fr

    ISSN 1637-5408.

    LA COLLECTION

    1 > Latome

    2 > La radioactivit

    3 > Lhomme et les rayonnements

    4 > Lnergie

    5 > Lnergie nuclaire: fusion et fission

    6 > Le fonctionnement dun racteur nuclaire

    7 > Le cycle du combustible nuclaire

    8 > La microlectronique

    9 > Lelaser

    10 > Limagerie mdicale

    11 > Lastrophysique nuclaire

    12 > Lhydrogne

    13 > Le Soleil14 > Les dchets radioactifs

    15 > Le climat

    DE L A RE C HE RC HE

    L I N D U ST R I E

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    > INTRODUC

    De llectron la fabrication des puces 8 > La microlectronique

    > SOMMAIRE2

    introductioTlphones mobiles, appareils photo num-riques, baladeurs, micro-ordinateurs,consoles de jeux, cartes bancaires, automo-

    biles: en quelques dcennies, les circuits int-grs ou puces ont conquis la plupart de nos

    objets quotidiens.

    Cette invasion na pas de prcdent dans lhis-

    toire des technologies. Elle sexplique par le

    rythme dinnovation acclr de lindustrie

    microlectronique : celle-ci na cess de pro-

    duire des transistors plus petits, donc des cir-

    cuits intgrs plus puissants et plus performants.

    En 1971, le processeur 4004 dIntel contenait

    quelque 2 300 transistors. En 2006, la

    perspective de puces 1 milliard de transis-

    tors se rapproche. Cet extraordinaire condens

    dintelligence cote de moins en moins cher :en 1973, il fallait dbourser le prix dun appar-

    tement pour fabriquer 1 million de transistors;

    aujourdhui, le prix dun post-it.

    Toujours plus puissantes et moins chresles puces lectroniques pourront-ellescontinuer se miniaturiser ?

    Pourtant, lhorizon de lindustrie micro

    nique est loin dtre dgag. Celle-ci a

    bientt des dimensions o les transisto

    extrmement difficiles fabriquer et f

    tionner. Un seul exemple : lpaisseu

    tains isolants (oxydes) pourrait ne pas d

    1,5nm, soit 4 5 molcules doxyde

    Des programmes de recherche accom

    de lourds investissements mobilis

    industriels, les laboratoires de rech

    les institutionnels. Ceci, notamment,

    rgion grenobloise, ple de microlec

    denvergure mondiale. Elle accueille

    (Laboratoire dlectronique et de tec

    de linformation) du CEA, et le site de

    o ST Microelectronics, Philips et Freesc

    sent leurs efforts. Enfin, depuis 2006, G

    regroupe 4 000 personnes au sein de

    principal ple europen dinnovation e

    et nanotechnologies.

    LA RVOLUTIONTECHNOLOGIQUE 4Dmocratiserla microlectronique 5

    Des calculs plus complexes 6

    Des produits et servicesinnovants 7

    UN PEU DHISTOIRE... 8La diode, premier dispositiflectronique 9

    Du transistor au circuit

    intgr 10Les circuits intgrs actuels 11

    COMMENT FABRIQUE-T-ONLES CIRCUITS INTGRS ? 13Des usines toujours pluscoteuses 14

    La salle blanche, un milieuextra-naturel 15

    La fabrication collective 16

    Les oprations lmentaires 17

    LA NANOLECTRONIQUE 18

    Top down et bottom up 19Porte ouverte sur lesnanotechnologies 19

    > INTRODUC

    Lam

    icrolectronique

    Observation au microscope optique dune plaque de silicium.

    De llectron la fabrication des puces 8 > La micro

    Conception: Spcifique - Photo de couverture : P. STROPPA /CEA - Illustrati ons : YUVANOE - Ralisation et impression : Imprimerie Sncaut - 09/2006

    CEA

    CEA

    La microlecgrce saminiaturisatet ses hautperformancepermet de napplications.Par exemplemdecine avpuce ADN (

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    De llectron la fabrication des puces 8 > La micro

    > UNE RVOLUTION TECHNOLOG4

    planifier des annes lavance leurs

    sements et leurs programmes de re

    Car pour tenir ce rythme, il faut sans ce

    remettre en cause : les matriaux utili

    les circuits, les connexions lectrique

    isolants ; les architectures des circuits, q

    sentent un lment dterminant de l

    mance finale ; les machines de product

    certaines cotent plusieurs millions d

    la taille des tranches de silicium sur le

    les circuits sont raliss (200m

    300 mm), et avec elles toutes les mtfabrication.

    Sur un circuit en technologie 90nm,les gravures sont mille fois plus finesque lpaisseur dun cheveu.

    40 ANS DE PROGRS CONTINUSET DE NOUVEAUX PRODUITS ET SERVICESDTERMINENT LRE DE LA MINIATURISATION.

    DMOCRATISERLA MICROLECTRONIQUELa microlectronique nest pas un mtier tabli

    et stabilis : le nombre de transistors par unit

    de surface quadruple tous les trois ans, et le

    cot des circuits est divis par deux tous les

    18 mois environ, notamment grce la fabri-

    cation collective de centaines de puces sur

    chaque plaquette de silicium.

    Cette courbe de croissance des performances

    avait t dcrite ds 1965 par Gordon Moore,

    cofondateur de la socit Intel. Elle sest

    confirme avec une telle exactitude quelle

    est devenue la loi de Moore pour tous lesindustriels du secteur, qui sen inspirent pour

    De llectron la fabrication des puces 8 > La microlectronique

    DenisDuret/CEA

    La rvolutiontechnologique

    LOI DE MOORE

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    De llectron la fabrication des puces 8 > La microDe llectron la fabrication des puces 8 > La microlectronique

    > UNE RVOLUTION TECHNOLOG6 > UNE RVOLUTION TECHNOLOGIQUE

    Pour suivre cette course la performance,lindicateur le plus significatif est la finesse de

    gravure. Elle tait exprime initialement en

    microns (millionimes de mtre) :

    0,25 micron, puis 0,18 micron,

    puis 0,13 micron Depuis le

    dbut des annes 2000, lunit

    la plus utilise est le nanomtre

    (milliardime de mtre). Un site de production

    comme celui de Crolles fabrique des circuits

    de 90 nm, soit des gravures 1 000 fois plus

    fines que lpaisseur dun cheveu.

    Ces prouesses technologiques ont permis la

    chute des cots, lenvole des performances et

    la dmocratisation de la microlectronique,

    avec deux consquences : des puissances de

    calcul toujours accrues, des nouveaux produits

    et services pour le grand public.

    DES CALCULS PLUS COMPLEXES,POUR CONCEVOIR, SIMULER,MODLISERLes scientifiques de laprs-guerre effectuaient

    leurs calculs sur des ordinateurs qui occupaient

    des pices entires, et dont la performance ne

    dpassait pas celle dune calculette daujourdhui.

    Ceux de ce dbut de XXIe sicle disposent de

    supercalculateurs dont la performance atteint le

    traflop. Les progrs des circuits intgrs

    expliquent ce saut gigan-

    tesque, qui a ouvert des

    possibilits nouvelles :

    -la conception de produits ou de systmes com-plexes : elle peut seffectuer entirement sur ordi-

    nateur. En fonction des conditions dutilisation

    prvues, la machine calcule le comportement des

    matriaux, les dimensions des composants, leur

    agencement dans lespace, et trace les plans.

    - la modlisation de phnomnes : le compor-

    tement dun avion de ligne dans des turbulences

    ou lvolution de la mto sur cinq jours dpen-

    dent dune multitude de paramtres. Ils peu-

    vent tre modliss, cest--dire reprsents par

    une srie doprations complexes dont le rsultat

    est trs voisin du phnomne rel

    -la simulation numrique : il sagit cette fois de

    faire tourner les modles, en indiquant par

    exemple le poids de lavion, sa vitesse, la force

    et la direction des turbulences ; lordinateur prdit

    alors son comportement en vol. En conception,

    la simulation numrique permet par exemple

    de tester un moteur avant de raliser un pro-

    totype : comment tiendra-t-il lchauffement,

    aux vibrations de la route ou des chocs ?

    DES PRODUITS ET SERVICESINNOVANTSLa puissance de calcul des circuits intgrs

    permet de proposer au grand public des qui-

    pements performants, faciles utiliser et riches

    en fonctions : tlphone mobile, lecteur DVD,

    tlvision numrique, baladeur MP3, appareil

    photo numrique, carte bancaire En effet,

    les puces grent la fois les fonctions de calcul

    et les interfaces (clavier, afficheur, prise USB)

    qui rendent lutilisation simple et intuitive.CEA

    La puissance des supercalculateurs actuelsatteint 1 000milliards doprations par secondegrce aux progrs de la microlectronique.

    ENIAC, le premier ordinateur. Tera, le nouveau supercalculateur.

    1 000 milliardsdoprations par seconde.

    CEA

    ARCHITECTURE INTERNE DUN BALADEUR MP3

    De plus, lencombrement et le prix des

    diminuent rgulirement : le consomm

    gagnant sur tous les tableaux.Le tlphone mobile offre une parfaitetion de ce phnomne. Les premiers afort encombrants, ne savaient que

    ner. Les plus rcents, ultra lgers, pdes jeux, des prises de vues haute dla connexion internet, pour un prixlent ou infrieur.

    Il faut noter enfin que la plupart des a

    comportent non pas un, mais plusieurs

    intgrs (microprocesseurs, mmoire

    lassociation bien pense contrib

    performances de lensemble.

    Des produits grandpublic plus performaoffrent plus de fonctils sont moinsencombrantset moins chers.

    La gravurereprsentela largeurdes motifssculpts dansle silicium.

    Phili

    C.

    DUPONT/CEA

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    > UN PEU DHISTO

    De llectron la fabrication des puces 8 > La microDe llectron la fabrication des puces 8 > La microlectronique

    8

    LA DIODE, PREMIER DISPOSITIFLECTRONIQUELhistoire de llectronique commence en 1904

    avec linvention de la diode, utilise dans les

    postes de radio. Une diode, cest un dispositif

    sous vide comprenant un filament metteur

    dlectrons et une plaque, collectrice dlec-

    trons lorsquelle est polarise positivement (les

    lectrons ont une charge ngative). Il suffit de

    faire varier la tension (positive ou ngative) de

    la plaque pour permettre ou interrompre le

    passage du courant.

    Ds 1907 apparat la triode, dans laquelle une

    grille est ajoute entre le filament et la plaque.

    Cette grille joue le rle de modulateur dlec-

    trons : selon sa polarisation, elle les bloque ou

    acclre leur passage (amplification du courant).

    Dans les annes 40, les triodes et autres tubes

    vide sont utiliss dans les tout premiers

    ordinateurs pour calculer plus rapidement qu

    la main. Les nombres et les oprations sont

    cods en mode binaire, laide de 0 ou de 1 :

    par exemple, le 1 correspond au passage du

    courant lectrique, le 0 son blocage. Mais

    pour effectuer des calculs complexes, de

    par exemple par les physiciens, il fau

    plier les tubes vide ; or ceux-ci sont

    neux, chauffent beaucoup et claque

    lement. Ce manque de fiabilit freine

    loppement de linformatique.

    EN UN SICLE, LA MINIATURISATION A PERMISLE PASSAGE DU TUBE VIDE AU TRANSISTORDUN MICROMTRE CARR.

    Diodes vide et transistors (en hau

    Artechnique

    CEA

    1904John Alexandre Fleming, ingnieuranglais, invente la diode. Ce premierdispositif lectroniqueest utilisdans les postes de radio. En 1907,Lee de Forest, chercheuramricain, amliore le principe eninventant la triode.

    1954Texas Instrument fabriqpremier transistor en sune dcennie, leur tailcelle dun d jouer, v celle dun grain de smultiplication des fils connexion freine le dde circuits complexes.

    Lhistoire de la microlectr

    DO VIENT LE MOT BUG ?Le mot anglais bug peut se traduire par insecte oubestiole. Alors, quel rapport avec les bugs de noslogiciels? Trs simple Sur lENIAC, premier calculateurautomatique au monde mis au point en 1946 luniversit de Pennsylvanie, lune des grandes causesde panne tait latterrissage de petits papillons sur les

    connexions lectriques. Celles-ci taient dautantnombreuses que lENIAC tait un monstre de 30 toccupant 72 m2 au sol et comptant plus de 17 00 vide.Cest ainsi que les bugs ont fait leur entre dansle monde de linformatique

    1948John Bardeen, Walter Brattain etWilliam Shockley, trois physiciensdes laboratoires Bell (Etats-Unis)ralisent le premier transistor.Fiabilit, faible encombrement,consommation rduite : la voie dela miniaturisation est ouverte.Cette dcouverte majeure leurvaudra le prix Nobel de physiqueen 1956.

    Un peu dhistoire...

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    > UN PEU DHISTO

    De llectron la fabrication des puces 8 > La microDe llectron la fabrication des puces 8 > La microlectronique

    > UN PEU DHISTOIRE...10

    utilis dans de nouveaux postes de radio auxquels

    il donne son nom, et dans des ordinateurs.Pourtant, un nouvel obstacle se dresse

    rapidement : plus les transistors sont nombreux,

    plus il faut de fils de cuivre souds pour les

    interconnecter, do un risque de panne lev.En 1959, linvention du circuit intgr rsoutle problme. Les transistors sont raliss direc-tement la surface du silicium, leursconnexions sont fabriques par dpt decouches mtalliques sur cette surface.

    Rien ne soppose plus la fabrication de

    dispositifs toujours plus complexes, associant

    transistors, diodes, rsistances et condensateurs.

    Le tout premier circuit intgr compte sixtransistors. Par la suite, ces dispositifs ne

    cesseront de se miniaturiser et de se densifier.

    DU TRANSISTOR AU CIRCUIT

    INTGREn 1948, John Bardeen, Walter Brattain et

    William Shockley , trois physiciens amricains

    inventent le transistor bipolaire et ouvrent ainsi

    lre de la microlectronique.

    Le transistor bipolaire comprend un metteur

    dlectrons, un collecteur et un dispositif de

    modulation appel base. Le dplacement des

    lectrons ne seffectue plus dans le vide mais

    dans un matriau solide, le semi-conducteuri

    dont on contrle la capacit

    conduire les courants dlec-

    trons. La fiabilit est considra-

    blement amliore.

    De plus, le transistor est moins

    encombrant que le tube vide.

    Et en quelques annes, sa taille va passer de celle

    dun d jouer celle dun grain de sel ! Il est

    Avec le transistor, les lectronscirculent dans un matriau solideet non plus dans le vide.

    La plupart des transistors sont des MO

    Mtal, Oxyde, Semi-conducteur), unelogie dveloppe dans les annes 19

    permet de raliser des transistors qui

    ment moins et de faciliter lintgra

    rsistances, autres composants import

    circuits intgrs.

    Dont le matriauest soit dugermaniumsoit du siliciummonocristallindop,par exemple.

    COMMENT FONCTIONNEUN TRANSISTOR MOS ?

    Un transistor MOS comprendune source et un drain, entre lesquelsles lectrons peuvent circuler viaun canal de conduction.Ce canal fonctionne commeun interrupteur, en fonctionde la charge lectrique de la grille.Selon la polarit de cette grille, le canalde conduction est ouvert ou ferm.La performance du transistor dpendprincipalement de la taille de la grille :

    plus celle-ci est petite, moins les lectronsont de chemin parcourir dans le canal,plus le systme est rapide.

    Lhistoire de la microlectronique en quelques dates.

    1964Premier circuit intgr du CEA/Lti.

    1960Aux Etats-Unis, le lancement duprogramme Apollo, dot de25milliards de dollars, donneun formidable coupdacclrateur aux recherchessur les calculateurs et lescircuits intgrs.

    1959Jack Kilby et Robert Noyce, deuxchercheurs amricains, ralisentle premier circuit intgr (sixtransistors). Ils ont notammentrsolu les problmes de souduredes connexions : celles-ci sontralises par dpt de couchesmtalliques sur le silicium.

    1974Lingnieur franais RolandMorno invente la carte puce.

    Laboratoire de recherche technologique des annes 1980.

    LES CIRCUITS INTGRS ACTUELSEn 2005, un microprocesseur (le circuit intgr

    le plus complexe) est un morceau de plaque de

    silicium carr denviron 2,5 cm de ct. Il peut

    comporter plusieurs centaines de millions de com-

    posants. Il est enferm dans un botier protec-

    teur muni de pattes (do le nom de puce)

    pour assurer les connexions avec les autres

    organes de lappareil dans lequel il sinsre.

    DR

    CEA

    CEA

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    Lhistoire de la microlectronique en quelques dates.

    De llectron la fabrication des puces 8 > La microlectronique

    > UN PEU DHISTOIRE...12

    La taille des circuits intgrs augmente rguli-

    rement. Celle des plaques de silicium sur les-

    quelles ces circuits sont fabriqus augmente

    galement, pour faire tenir un mme nombre de

    puces sur chaque plaque. Ces vingt dernires

    annes, lindustrie microlectronique a utilis suc-

    cessivement des lingots de silicium de 100mm

    de diamtre, puis 200 mm, puis 300mm.

    Le silicium nest pas utilis ltat pur : il est

    dop par lajout en trs faibles quantits

    dions trangers (arsenic, bore, phosphore) qui

    guident et facilitent le passage du courant.

    Le circuit peut tre grav dans du silicium massif

    ou sur une couche mince de quelques centaines

    de nanomtres dpose sur un isolant : le SOI,

    qui permet de raliser des circuits

    plus rapides et moins gourmands

    en nergie, est de plus en plus utilis. Le

    meilleur procd de fabrication a t invent

    en 1991 par un chercheur du CEA.

    1996Le processeur Intel Pentium Procompte 5,5 millions detransistors. Il sera suivi en 1999dIntel Pentium III (9,5 millions)et en 2002 dIntel Pentium IV (55millions), contre 2 300transistors dans le tout premiermicroprocesseur Intel, le 4004sorti en 1971.

    1991Michel Bruel, chercheur auCEA/Lti, invente le procdImprove permettant de fabriquerle silicium sur isolant SOI avec une productivit dcuple.Le SOI va devenir un matriau derfrence pour fabriquer descircuits rapides, peu gourmandsen nergie.

    2003Premires productionsindustrielles de puces sur destranches de silicium de 300 mmde diamtre.

    pour Siliciumsur isolant

    De llectron la fabrication des puces 8 > La m

    fabrique-t-on lescircuits intgrs ?

    PRODUIRE LINFINIMENT PETIT NCESSITE DES USINES GIGANTESQUES.

    P.

    STROPPA/CEA

    Commentfabrique-t-on lescircuits intgrs ?

    Un microprocesseuractuel compte

    plusieurs centainesde millions decomposants sur

    un carr de 2,5 cmde ct.CE

    A

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    > COMMENT FABRIQUE-T-ON LES CIRCUITS INTG

    De llectron la fabrication des puces 8 > La microDe llectron la fabrication des puces 8 > La microlectronique

    > COMMENT FABRIQUE-T-ON LES CIRCUITS INTGRS ?14

    Une sall(Laboratdlectroet de tecde linfoau CEA G

    DES USINES TOUJOURSPLUS COTEUSESFabriquer un circuit intgr, cest raliser sur

    quelques centimtres carrs de surface et

    quelques microns dpaisseur un assemblage

    de millions de composants interconnects ; ceci,

    simultanment, pour des centaines dexem-

    plaires identiques.

    Plus les circuits intgrs se miniaturisent, plus

    les usines qui les fabriquent cotent cher.Une

    fab (unit de production) cote peu prs

    le mme prix que 300 Airbus A320 ! Ceci pour

    plusieurs raisons :

    -plus on fait petit, plus les environnements de

    travail doivent tre propres pour viter des

    contaminations fatales aux circuits : les exi-

    gences de propret des salles blanches ne ces-

    sent daugmenter ;

    -plus on fait petit, plus les machines de pro-

    duction sont prcises, fiables, difficiles

    mettre au point et entretenir ; de plus, elles

    ne sont fabriques quen petites sries ;

    -plus on fait petit, plus il faut recourir des

    matriaux spciaux, des solutions techniques

    complexes et des tapes supplmentaires

    de fabrication ; aujourdhui, on en compte

    environ 200 par circuit.

    Malgr ce dploiement defforts, le rendementi

    dune chane de fabrica-

    tion ne dpasse pas 20%

    lors du lancement dune

    nouvelle production. Les efforts des quipes de

    fabrication feront rapidement passer ce chiffre

    80, voire 90 %.

    LA SALLE BLANCHE, UN MILIEUEXTRA-NATURELA lchelle dune puce, un minuscule grain de

    poussire reprsente un rocher qui bouche les

    chemins creuss pour la circulation des lec-

    trons. Cest pourquoi la fabrication a lieu en

    salle blanche. Lair est filtr et entirement

    renouvel 10 fois

    par minute. Il

    contient 100 000

    1million de fois moins de poussires que lair

    extrieur. Les oprateurs portent en perma-

    nence une combinaison qui les couvre presque

    des pieds la tte, et retient les particules

    organiques et les poussires quils gnrent

    naturellement.

    De plus, de nombreuses oprations de nettoyage

    des tranches sont menes entre les tapes de

    fabrication. Au total, elles reprsentent presque

    un tiers du temps total de process.

    Lair des salles blanches contient 100 0 1 million de fois moins de poussiresque lair extrieur.

    Le prix dune unit de productionquivaut celui de 300 Airbus A320.

    local o lhumidit, la temprature,leau, les produits chimiques sontrigoureusement contrls.

    nombre de pucesfonctionnelles sur lenombre de puces produites.

    P.

    STROPPA/CEA

    DR

    CAO : DES VILLES LCHELLDU CENTIMTREImpossible de concevoir un circuit de plusimillions dlments sans laide de lordinattout concepteur de puces recourt la CAO dterminer les principales fonctions, puisemodules dans des bibliothques informatisarranger ces modules les uns par rapport aautres, simuler le fonctionnement, etc. Lexest long, difficile et incroyablement minutieen imaginant quun micro-processeurde 100 millions detransistors ait la taille duncarr de 6 km de ct

    (superficie dune villede 100 000 habitants),chaque isolant de grille detransistor aurait une paisseurde seulement un millimtre !Usine de lalliance entre STMicroelectronics, Freescale

    et Philips, Crolles (Isre).

    16

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    > COMMENT FABRIQUE-T-ON LES CIRCUITS INTG

    De llectron la fabrication des puces 8 > La microDe llectron la fabrication des puces 8 > La microlectronique

    > COMMENT FABRIQUE-T-ON LES CIRCUITS INTGRS ?16

    La fabrication collective par centainesdexemplaires fait chuter le cot unitairedes puces.

    LA FABRICATION COLLECTIVE,UN ATOUT ESSENTIELLe matriau de base du circuit intgr est le silicium,

    lment chimique le plus rpandu sur terre. Extrait

    du sable par rduction, il est cristallis sous forme

    de barreaux de 20 ou 30 cm de diamtre, ensuite

    scis en tranches de moins dun millimtre dpais-

    seur qui sont polies jusqu obtenir des surfaces lisses

    0,5 nanomtre prs.

    Cest sur cette tranche que des centaines de puces

    sont fabriques simultanment, grce la rpti-

    tion ou la combinaison doprations lmentaires:

    traitement thermique, dpts, photolithographie,

    gravure et dopage.

    Cette fabrication collective, qui fait chuter les cots

    unitaires, est lun des atouts majeurs de lindus-

    trie microlectronique. Elle explique pourquoi lesindustriels des microsystmes cherchent fabri-

    quer leurs produits avec les mmes technologies.

    Mais elle durcit aussi les exigences de production:

    une erreur de manipulation, quelques secondes en

    plus ou en moins et ce sont plusieurs centaines de

    circuits qui finissent la poubelle

    Barreau de silicium, 300 mm.

    DR

    LE TRAITEMENTTHERMIQUERalis dans des fours

    des tempratures de

    800 1200C, il peut

    servir raliser descouches doxydes,

    rarranger des rseaux

    cristallins ou effec-

    tuer certains dopages.

    LA PHOTOLITHOGRAPHIEEtape-cl, elle consiste reproduire

    dans une rsine photosensible le dessin

    des circuits raliser. Cette rsine est

    dpose sur le silicium. La lumire dune

    source lumineuse de trs faible longueur

    donde (UV ou infrieure) y projette

    limage dun masque. Plus la rsolution

    optique est pousse, plus la miniaturi-

    sation des circuits peut tre amliore.

    LA GRAVUREA linverse du dpt, la gra-

    vure enlve de la matire la

    plaquette, toujours dans le

    but de raliser un motif. Deux

    voies principales : la gravuredite humide, qui utilise

    des ractifs liquides, et la

    gravure sche (ou gravure

    plasma) qui emploie des rac-

    tifs gazeux.

    LEDOPAGEPour introduire au c

    silicium les atomes q

    modifier sa conductiv

    plaquettes sont cha

    entre 800 et 1100des fours, en prsence

    dopant, ou bombar

    travers un masque

    faisceau dions acclr

    LES OPRATIONS LMENTAIRES

    LES DPTSIls apportent la surface

    du silicium des couches

    conductrices ou isolantes :

    oxydes, nitrures, siliciures,

    tungstne, aluminium... Ilssont effectus par diverses

    techniques faisant appel

    des gaz ou des liquides :

    dpt en phase vapeur

    (CVD), par pulvrisation,

    par pitaxie etc.

    P.STROPPA / CEA

    P.STROPPA / CEA

    P.STROPPA / CEA

    CEA

    P.STROPPA /CEA

    LES OPRATIONS LMENTAIRES

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  • 7/30/2019 livret_microlectronique.pdf

    10/10

    > LA NANOLECTRON

    De llectron la fabrication des puces 8 > La microDe llectron la fabrication des puces 8 > La microlectronique

    18

    LE TOP DOWN ET LE BOTTOM UPLavnement de la nanolectronique saccom-

    pagne de dfis techniques si ambitieux quils

    pourraient dresser un mur infranchissable face

    au puissant courant dinnovation qui irrigue

    cette industrie. Comment raliser des traits de

    gravure de quelques nanomtres de largeur ?

    Comment isoler efficacement des pistes lec-

    triques avec des matriaux dont lpaisseur ne

    dpasse pas quelques couches atomiques ?

    Comment raliser des transistors dans lesquels

    ne transite plus quune poigne dlectrons ?

    Deux approches sont menes en parallle pour

    surmonter ces obstacles :

    -la voie top down : elle consiste pousser

    jusqu ses limites extrmes la miniaturisation

    du transistor MOS, dans la continuit des tra-

    vaux des 40 dernires annes ;

    -la voie bottom up : il sagit cette fois das-

    sembler la matire atome par atome, pour

    construire des molcules que lon intgre

    ensuite dans des transistors dune conception

    entirement nouvelle. Cette voie fait appel

    des connaissances fondamentales de physique

    et de chimie, disciplines laquelle la micro-

    lectronique doit souvrir.

    AU CARREFOUR DE LA PHYSIQUE ET DE LA CHIMIE,UN NOUVEAU DFI POUR LA MICROLECTRONIQUEAPPARAT ET SERA PORTEUR DE DCOUVERTES,DAPPLICATIONS ET DEMPLOIS.

    PORTE OUVERTESUR LES NANOTECHNOLOGIAutre volution majeure, la microlec

    va interfrer de plus en plus avec le mo

    micro et nanosystmes : acclromt

    airbags, vtements communicants,

    camras permettant dintroduire dan

    nisme un micro-camescope, biopuces

    analyses biologiques, laboratoire dan

    puce

    Ces dispositifs associeront des capteu

    puces, indispensables au traitement des

    recueillies. Leur fabrication fera ncess

    appel aux technologies microlectro

    pour tenir les objectifs de miniaturisatcot. Un autre croisement de cultur

    mtiers se prpare : celui entre lectro

    systmes lchelle micro et nano.

    PhotoDisc

    Il est actuellement possible dassemblerla matire atome par atome, pourconstruire des transistors dune conceptentirement nouvelle.

    Biochip LabPM.

    Nanotube de carbone.

    CEA

    CEA

    La nanolectronique